Nueva gran amenaza para la tecnología occidental que llega desde Asia. China de un paso crucial en su carrera por la autosuficiencia tecnológica. Una compañía asentada en Shanghái y respaldada por Pekín ha comenzado a fabricar sus propias máquinas de litografía DUV de inmersión, un componente esencial para la producción de semiconductores avanzados cuya producción estaba dominada, hasta ahora, por un reducido oligopolio extranjero liderado por la neerlandesa ASML.
Según revela el portal especializado The Information, el fabricante chino prevé entregar las primeras unidades a lo largo de este año a gigantes locales del sector como SMIC, Hua Hong y CXMT.
El diario estatal China Daily ha celebrado la noticia como "la señal más reciente de que los planes de autosuficiencia están dando sus frutos" y ha destacado el "vuelco inmediato" en la confianza de Wall Street. Desde el entorno mediático de Pekín se enfatiza que los controles de exportación impuestos por Washington han funcionado como un catalizador para acelerar el desarrollo nacional de alternativas competitivas.
Un salto técnico con matices
Si bien la noticia supone un hito estratégico para Pekín, el consenso de los analistas llama a la cautela. ASML mantiene una ventaja sustancial respecto a la alternativa china, que aún debe demostrar su estabilidad en términos de fiabilidad y rendimiento en cadenas de montaje masivas.
Además, Pekín sigue teniendo vetado el acceso a la litografía ultravioleta extrema (EUV), la tecnología más puntera del mercado de la que ASML posee el monopolio absoluto. No obstante, circulan informes que apuntan a que ingenieros chinos —algunos de ellos exempleados de la propia firma neerlandesa— trabajan ya en un prototipo propio.
